點(diǎn)腐蝕檢測(cè)費(fèi)用是多少，金屬腐蝕的危害性是十分普遍的，而且也是十分嚴(yán)重的。腐蝕會(huì)造成重大的直接或間接損失，會(huì)造成災(zāi)難性重大事故，而且危及人身安全。因腐蝕而造成的生產(chǎn)設(shè)備和管道的跑、冒、滴、漏，會(huì)影響生產(chǎn)裝置的生產(chǎn)周期和設(shè)備壽命，增加生產(chǎn)成本，同時(shí)還會(huì)因有毒物質(zhì)的泄漏而污染環(huán)境，危及人類(lèi)健康。那我們?cè)谶x擇
晶間腐蝕檢測(cè)的時(shí)候需要注意哪些事項(xiàng)呢？
根據(jù)稀釋理論,晶間腐蝕是由于組件的稀釋晶界由于容易沉淀的第二階段的晶界(1)奧氏體不銹鋼,鉻缺乏是由于晶界Cr23C6階段的降水,(2)對(duì)于Ni Mo合金，ni7mo5在晶界處析出，鉬在晶界處含量較低;(3)對(duì)于銅鋁合金，CuAl2在晶界處析出，導(dǎo)致晶界處銅含量較低。
晶間腐蝕:金屬材料在特定腐蝕介質(zhì)中沿晶界發(fā)生的局部選擇性腐蝕。晶界是不同晶粒之間的邊界。由于晶粒有不同的取向，原子在結(jié)處的排列必須逐漸從一個(gè)取向轉(zhuǎn)變?yōu)榱硪粋€(gè)取向。因此，晶界實(shí)際上是一種“表面”不完整的結(jié)構(gòu)缺陷。由于晶格畸變的增加，晶界處原子的平均能量高于晶內(nèi)。較高的能量稱(chēng)為晶界能。純金屬晶界在腐蝕介質(zhì)中的腐蝕速率比晶體的腐蝕速率快，這是因?yàn)榫Ы绲哪芰扛?，原子處于不穩(wěn)定狀態(tài)。
鉻、鎳、鉬、硅:Cr、Mo含量的增加會(huì)降低C的活性，降低晶體腐蝕的傾向;Ni、Si等不形成碳化物的元素會(huì)提高C的活性，降低C在奧氏體中的溶解度，促進(jìn)碳化物的析出。
,建議含Ti和Nb的Cr Ni奧氏體不銹鋼只能在低碳和超低碳不銹鋼不能被替代的情況下使用，如用作耐熱鋼和在聚硫酸中使用。
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